EDA创新设计平台

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EDA创新设计平台应用程序开发平台架构

EDA是集成电路产业最上游的基础工具。全球EDA产业市场规模不过百亿美元，却支撑起30万亿美元庞大的数字经济。

目前全球 EDA 产业呈现三足鼎立的竞争格局。美国的Synopsys、Cadence和Mentor Graphics（被西门子收购）三巨头在集成电路所有环节都有产品布局，与上下游产业链深度绑定，建立了极高的技术壁垒，形成了稳定牢固的生态系统。

国内EDA产业自上世纪八十年代中后期萌芽，但因各种因素的影响，产业发展曲折而缓慢。面对西方国家对我国集成电路产业日益严苛的技术封锁和专利打压，EDA的国产替代迫在眉睫。

我国发展EDA软件，若采用跟随式的EDA研发战略，会造成“一步慢、步步慢”的局面，投入的研发资源并不少，但EDA产业依旧无法突破。国内厂商可充分利用地域优势和政策红利，贴近和深挖本土企业在细分领域的需求，以单点工具切入，由点到面寻求技术突破，打造本土特色化EDA工具，形成错位发展的竞争格局，逐步实现国产替代。

近年来，国内EDA厂商在新兴EDA工具方面有较大斩获，中国EDA 市场营收国产化份额逐年提升，星星之火已现燎原之势。针对我国液晶平板显示产业发展的机遇已经开发出了全球领先的全流程EDA设计解决方案。EDA创新设计平台针对核心集成电路产品在抗辐照加固、可靠性加固、安全性加固等特定需求上，将研发EDA创新设计平台成功应用于相关客户的产品研发中。

细分领域EDA需求挖掘，为了更好地帮助客户完成产品的设计工作，开发相关EDA工具，专门处理可靠性加固等特定的设计需求。寻求技术突破，目标是逐步形成可覆盖数字后端设计优化全流程的特色EDA工具。

在版图验证引擎和版图布线优化引擎两个关键点上进行了深入研究。前者实现自动化的DRC违例检查与修复，该技术有效适用于复杂工艺的设计工序，可显著提升版图规则检查效率，缩短验证时间；后者提供批处理、交互式版图布线优化算法，可实现局部的点对点之间的布线优化。两大引擎结合，实现了“优化-验证”的正循环。同时，为了解决算法性能不足的问题，两大引擎的核心算法均架构在自主设计的分布式计算平台上。分布式计算平台可实现计算资源的动态管理，聚零为整，大幅提升效率。核心算法平台提供特色化数字后端设计优化EDA工具中通用基础技术的支持。芯愿景研发团队在两个关键点上进行了深入研究：面向规则验证的版图处理技术和面向制造可靠性的版图布线优化技术，从而得到最合适的数字后端版图优化结果。

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目前，芯愿景的特色化数字后端设计优化EDA工具已实现广泛的工艺节点支持，覆盖多家主流半导体厂商16纳米到350纳米的工艺制程。这些工具已在中国电子科技集团、中国航天科技集团、中国电子信息产业集团等单位的研发工作中得到应用。将继续围绕本土集成电路设计企业国产替代和创新设计需求，依托自主研发的集成电路设计EDA软件，助力塑造其产品的独特竞争力。

 

 

 

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